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解析雙偏心半球閥的閥芯研磨工藝
研磨實驗表明:平面量塊及圓柱量規研磨時,當其軌跡為正弦波時,其幾何精度、表面粗糙度很高。通過對半球閥閥芯研磨過程和研磨機理的研究,在球面上進行模 擬操作實驗證明:軌跡若為正弦波軌跡時,其幾何精度、表面粗糙度亦可以達到較高的水平;研磨速度(0.33~1.54mPmin)增大使研磨效率提高;但當速度過高(0.5~100mPmin)時,由于離心力作用,使研磨劑甩出工作區,研磨運動平穩 性降低,研具磨損加快,從而降低研磨加工精度,在定范圍內(0.1~0.3MPa)增加研磨壓力可提高研磨效率。當壓力大到定值時,由于磨粒破碎及研 磨接觸面積增加,實際接觸點的接觸壓力不成正比增加,研磨效率提高并不明顯;另方面,對于同樣的磨粒,研磨壓力減小對提高表面粗糙度有利。般粗研多用 較低速、較高壓力;精研多用低速、較低壓力。為此,在設計偏心球面研磨機構時,著重考慮了正弦波軌跡的實現、研磨速度和研磨壓力的控制。 研磨機的運動原理如圖1所示,n1是研具的轉速,n2是閥芯的轉速,兩者方向相反同軸(z軸),另外,閥芯繞y軸擺動,往復轉速為n3。在水平面上,閥芯 球面上任磨粒在水平面(xy平面)內的合速度為(v1-v2),如圖2所示。在xz平面內,設磨粒的速度為v3,則磨粒的實際速度v=v1- v2+v3。當擺動按正弦波規律運動,v1、v2與之合理匹配時,其磨粒軌跡類似于振動衰減的正弦波,如圖2所示。在n點處,其速度為 v1+v2,v3=0。由圖2可看出,若閥芯只作往復擺動,在m點與n點處的研磨軌跡就有很大差別,其去除材料量、磨損、磨削等產生嚴重不均勻,閥芯的球 面度、表面粗糙度就很難達到均勻致,不能滿足要求,為此應使閥芯有轉速n2,不斷連續變動閥芯位置,使整個球面的研磨、磨損等均勻致。 上海喬邑閥門為您提供的【雙偏心半球閥】產品和完善的售后服務,如需訂購本產品,請提供口徑、壓力、材質等詳細參數!本文中所有的文字、圖片、數據僅供參考,若需要了解更多的性能參數、結構尺寸、價格等詳情,請!